Quelles sont les applications de l’arbre linéaire de haute précision à arbre spécial dans la recherche scientifique ?

Arbre spécial Arbre linéaire de haute précisionest le composant de transmission principal des équipements d’automatisation de précision et des instruments de recherche scientifique. Sa conception, sa fabrication et ses performances dépassent de loin celles des guides linéaires classiques.

Excellente précision de positionnement et répétabilité : c'est sa caractéristique la plus essentielle. Il a généralement une précision de positionnement et une répétabilité microniques (μm) ou même submicroniques (telles que ± 1 μm ou plus). Ceci est essentiel pour les tâches qui nécessitent une précision extrêmement élevée.

Erreur de mouvement extrêmement faible : Erreur de rectitude : L’écart de la trajectoire de mouvement par rapport à la ligne droite idéale est extrêmement faible. Erreur de planéité : L'écart du plan de mouvement par rapport au plan idéal est très faible.

Erreur de tangage/lacet/roulis : l'erreur d'angle de rotation de l'axe autour de chaque axe pendant le mouvement est strictement contrôlée. Erreur d'Abbe : La conception réduit considérablement l'influence de l'erreur d'Abbe en optimisant la structure (telle que la conception colinéaire/coplanaire du rail de guidage et du point de mesure) ou en utilisant des algorithmes de compensation.

Haute rigidité :Arbre spécial Arbre linéaire de haute précisiona une conception structurelle solide, et ses matériaux et processus de fabrication sont excellents, ce qui lui permet de résister aux petites déformations causées par des charges externes (en particulier les forces ou moments latéraux), garantissant qu'il peut toujours maintenir une haute précision sous charge. Friction et mouvement fluide : des méthodes de guidage hautes performances (telles que des guides à billes préchargées, des guides à rouleaux, des guides hydrostatiques et des guides flottants à air) sont utilisées, avec une friction faible et stable. Cela permet d'obtenir un mouvement uniforme extrêmement fluide (pas de fluage) et une réponse démarrage/arrêt rapide. Excellente stabilité thermique et adaptabilité environnementale : utilisez des matériaux avec des coefficients de dilatation thermique extrêmement faibles (tels que la céramique, les alliages spéciaux), ou compensez la déformation thermique par une conception structurelle/un contrôle actif de la température pour garantir la précision en cas d'augmentation de température ou d'environnements fluctuants. Certains modèles ont de bonnes capacités anti-pollution (notamment flottement dans l'air, sustentation magnétique) ou une compatibilité sous vide.

Système de rétroaction haute résolution : des échelles de réseau linéaires à ultra haute résolution généralement intégrées (telles qu'une résolution nanométrique) ou des interféromètres laser en tant que retour de position en boucle fermée constituent la base pour obtenir un contrôle au niveau nanométrique.

Principaux domaines d'application : Fabrication et inspection de semi-conducteurs : Machine de lithographie (step-scan) : Le cœur de l'étage de plaquette et de l'étage de masque est le positionnement précis au niveau nanométrique. Équipement d'inspection des plaquettes : mouvement précis de la station de sonde et de la plate-forme d'imagerie microscopique pour l'inspection et la mesure des défauts. Emballage et test de puces : l'axe de mouvement principal des machines de placement de haute précision, des machines de soudage par fil et des machines de tri de test. Optique et photonique de précision : Traitement et inspection de composants optiques : écriture directe laser, machines-outils de tournage diamant et axes de positionnement de plateformes interférométriques.

Microscope (confocal, super-résolution) : Balayage à l'échelle nanométrique et positionnement de la platine et de l'objectif. Équipement de traitement laser : axe permettant un positionnement précis du trajet du faisceau ou de la pièce à usiner dans les équipements de micro-traitement, de marquage, de perçage et de découpe. Métrologie et contrôle haut de gamme : Machine à mesurer tridimensionnelle : Mouvement de haute précision du bras de mesure dans un espace tridimensionnel.

Profilomètre/rugosité/rounditude : positionnement précis et mouvement de balayage des capteurs.

Plateforme d'étalonnage du laser tracker/interféromètre : fournit une trajectoire de mouvement de référence précise. Équipements pour les sciences de la vie et médicaux : Séquenceur de gènes : progression et focalisation précises de la platine d'échantillon et de la tête de balayage optique. Équipement de manipulation cellulaire/microinjection : visée et déplacement précis de microaiguilles ou de faisceaux laser. Matériel d'imagerie médicale haut de gamme : Positionnement précis des composants des détecteurs en TEP/TDM/IRM. Fabrication avancée et recherche scientifique :

Centre d'usinage ultra-précision : Mouvement d'alimentation de l'axe de la machine-outil. FIB/SEM : manipulation de platines d'échantillons dans un microscope électronique à faisceau d'ions focalisé/à balayage. Plateforme expérimentale en science des matériaux : positionnement, chargement ou mesure précis de minuscules échantillons. Dispositif expérimental de technologie quantique : un contrôle de déplacement ultra-précis dans des environnements extrêmes (basse température, vide) est requis. Aéronautique et défense : Banc d'essai d'équipements de navigation inertielle, système de visée optique, mécanisme d'asservissement de précision, etc.

Arbre spécial Arbre linéaire de haute précisionest le matériel de base pour réaliser des percées technologiques de pointe et des mises à niveau des processus de production. Ses caractéristiques de « haute précision, haute rigidité, haute stabilité et faible erreur » en font un composant clé indispensable dans des domaines tels que la fabrication de puces, la mesure de précision, la biomédecine, la recherche scientifique de pointe, etc. qui ont des exigences strictes en matière de précision de mouvement et déterminent directement la limite supérieure de performance de l'équipement.